会议议程

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*以下排名不分先后（更新至5.28）

会议背景

光刻胶作为微电子器件图形化加工的关键材料，被应用在泛半导体、印刷电路板等产业的生产制程中。

在半导体领域，8寸/12寸晶圆所使用的KrF/ArF光刻胶是制造深亚微米级乃至纳米级器件的关键耗材，其中KrF光刻胶国产化率不到5%，只有两到三款产品实现少量替代，主要集中在0.18-0.25um工艺线宽，ArF光刻胶目前仍完全依赖进口，EUV光刻胶更是处于产业空白状态；在面板显示领域，TFT正性光刻胶国内本土产能不足，彩色/黑色光刻胶还严重依赖进口；在PCB领域，国内本土企业已具备一定市场竞争力，但在线路刻蚀用光刻胶领域还有持续扩大国产化空间。

纵观国内光刻胶市场情况，尽管印刷电路板用光刻胶国产化率已经达到了50%，但在半导体及显示领域光刻胶国产化进度缓慢，尤其半导体领域的高端光刻胶，已经成为了当下国内亟需攻克的产业化难题。

近年来，国家出台了多项产业政策助力高端光刻胶在内的关键原材料行业的发展，例如今年3月，财政部等三部门联合印发《关于支持集成电路产业和软件产业发展进口税收政策的通知》，提到针对光刻胶生产企业进口国内不能生产或性能不能满足需求的自用生产性原材料、消耗品时免征进口税。就国内企业而言，2020年有近十几家上市企业纷纷布局光刻胶相关项目。

在电子信息产业高速发展的今天，为推动改善光刻胶材料及设备出现的“卡脖子”问题，同时也为加强行业内产品与技术、市场现状与趋势的交流，促进政-产-学-研-资各环节协同发展，势银（TrendBank）将邀请业内资深专家、头部企业高层于6月召开“2021势银光刻胶产业大会”。

会议基本信息

会议名称：2021势银光刻胶产业大会

会议时间：6月24日-25日

地点：上海阿纳迪酒店（上海市长宁区临虹路7号）

会议规模：300人

相关单位

主办单位：势银（TrendBank）

联合主办：上海彤程电子材料有限公司

承办单位：势银膜链

合作媒体：芯通社、化工新材料、半导体材料与工艺设备、全球半导体观察

会议主题

需求热潮下的光刻胶产业“破局”

会议亮点

（1）为打造国内一流行业交流论坛，特别邀请国内光刻胶资深专家、学者、头部企业高层代表，针对半导体、新型显示等产业领域的光刻胶及其配套材料、装备，开展产学研、供应链情况的深入交流；

（2）论坛围绕“光刻胶及其配套材料、光刻技术、关键设备”的主题展开讨论，学习国内外先进技术及产品应用现状，进而掌握产品及技术发展方向、产业前沿热点、供应链现状；

（3）预计相关行业参会企业人数规模在300人以上，与会人涉及企业高管、技术研发、科研学者、战略采购、市场开发等等；

（4）可实现光刻胶产业链资源共享，同行人脉及上下游客户拓展，产品、技术及品牌推广，促进国内光刻胶产业螺旋式发展，实现产业链内企事业单位的合作共赢，真正达到推进光刻胶国产化的目的。

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