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    上海新阳:拟进军化学机械抛光液领域

    来源:半导体联盟 2020-08-17 09:47产业资讯

    当前,我国集成电路产业处于发展的关键时期,半导体材料行业也进入快速发展时刻,半导体芯片生产用化学机械抛光液(CMP Slurry)产品市场需求巨大,而国内供应商缺乏。

    为推动国内半导体材料行业持续、健康、快速发展,2020年8月13日,上海新阳半导体材料股份有限公司(以下简称“上海新阳”)与上海晖研材料科技有限公司(以下简称“上海晖研”)签订了《战略合作协议》。

    根据公告,上海新阳和上海晖研将共同开发集成电路制造关键工艺材料化学机械研磨液,上海晖研具有化学机械抛光液产品研发团队,具有化学机械抛光液产品研发、生产工艺技术及质量管控、客户技术服务能力等专有技术;而上海新阳具有化学机械抛光液产品生产基础条件与产品销售渠道。这次双方达成产品研发、生产、销售与服务的合作关系。

    我国半导体市场快速发展,规模巨大,在集成电路行业,化学机械研磨技术应用最为广泛,而国内供应商单一,绝大部分市场掌握在国外厂商手中,基本被日美企业所垄断。为破除晶圆制造工艺材料被垄断的局面,推动国家芯片国产化政策的快速实现。

    上海新阳称,公司通过与合作方共同开发、生产的方式,整合资源,充分发挥各自优势,形成优势互补,实现互利共赢。本次战略合作协议的签署符合公司的整体战略发展与产业布局,符合公司及全体股东的根本利益,不存在损害公司和股东权益的情形,对公司当年业绩无重大影响,若未来产品研发成功实现销售,将对公司业绩产生积极影响。

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